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Die Sekundärliteratur beschränkt sich vielfach auf eine knappe Behandlung des Neuen Frankfurt innerhalb der gesamten Architekturgeschichte der Zeit (Huse

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Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing formatIsbn:Softcover - 9789048146963 Die Sekundärliteratur beschränkt sich vielfachRapid thermal and integrated processing is an emerging single wafer technology in ULSI semiconductor manufacturing, electrical engineering, applied physics and materials science. Here, the physics and engineering of this technology are discussed at the graduate level. Three interrelated areas are covered. First, the thermophysics of photon induced annealing of semiconductor and related materials, including fundamental pyrometry and emissivity issues,